Carl Zeiss SMT（

方向: 半导体设备 / EUV 投影光学 机构: Carl Zeiss SMT，德国奥伯科亨 简介: ASML 最核心的战略供应商，为 EUV 光刻机提供投影光学系统——这是 ASML 本身也无法自研替代的环节。

技术难度

EUV 光学镜片需要把亚 10 纳米级别的结构投影到晶圆上，反射镜面轮廓精度要求达到“仅几个原子”级别的加工公差，是精密光学制造的天花板级别难题。

里程碑

• 2016 年：ASML 反向入股 Zeiss SMT 以巩固合作关系。
• 截至目前已向 ASML 交付超过 300 套 EUV 光学系统。
• 2026 年起 High-NA EUV（下一代更高数值孔径光刻技术）将开始量产供货。

对求职与申博的意义

与 ASML 同属“稀缺性 + 不可替代性”排序中的第一梯队，是核心供应商路径的代表。